为了提高样品的成像效果，电子显微学领域需要对样品进行镀膜处理。通过在样品表面形成金属导电层，抑制了电荷聚积，降低了热损伤，并提高了SEM对二次电子信号的检测能力。TEM观察了复型样品中x射线显微分析网格上的支撑膜和背底支撑膜，研究了一种既可对电子束透明又能导电的精细碳膜。镀膜工艺的具体要求取决于分辨率和应用。
扫描电镜成像前的必要涂层处理。
要求有极差导电或非导电性能的材料样品(陶瓷、聚合物等)需要碳或金属涂层。冷冻断裂样品经金属镀膜处理(徕卡EMACE600和徕卡EMVCT500)，低温扫描电镜成像。
电子显微镜成像前的涂层处理
TEM网格覆盖着聚醋酸甲基乙烯脂(formvar)，为了获得导电性能，需要对其进行碳镀膜。采用辉光放电的方法处理网格，否则溶液就不会粘附和分布。将冻裂样品用金属镀膜后，再用碳素镀膜(LeicaEMACE600冻裂或徕卡EMACE900)对其进行处理，得到可以在TEM中成像的复型样品。
溅射式涂层
对SEM进行溅射镀膜是一种将金层(Au)、金/钯(Au/Pd)、铂层(Pt)、银层(Ag)、铬(Cr)或铱(Ir)等超薄的导电金属层(不导电或导电性差的样品)镀膜的工艺。溅射膜可以防止样品由于静电场的积累而产生电荷聚集。通过增加SEM样品表面检测到的二次电子量，可以有效地提高样品的信噪比。扫描电镜用溅射膜一般为2-20纳米厚。 扫描电镜样品采用金属溅射膜的优点：
降低显微电子束损伤；
增强导热。
降低样品电荷积累(改善导电性能)
改进次级电子发射。
减小电子束的穿透深度，提高边缘的分辨率。
防止射束灵敏的样品。
蒸碳
碳热蒸发广泛地应用于电子显微镜样品制备。不管是线型的还是棒型的，在一个真空系统中的两个高电流电极之间都安装一个碳源。在碳源被加热到它的蒸发温度时，样品上会有一股细小的碳流动。在EM电子显微镜中，碳蒸镀的主要应用是X射线显微分析和(TEM)网格样品支撑薄膜。
电子束蒸镀
金属与碳均可蒸镀。用电子束蒸镀法可获得最精细的镀膜，这是一个方向很明确的镀膜工艺，只需很少的范围。该靶子中的电子会聚在一起，被加热并进一步蒸发。将电子束中带电粒子移除。这样就可以在样品表面形成一束极低电流的电子束。热减少了，样品上的带电粒子的影响也减少了。在运行了一些时间之后，电子源需要重新加载和清理。一般而言，当必须进行定向镀(投影和复型)或需要精细镀时，可采用电子束蒸发。
介绍低温技术。
冻裂包括一系列技术，它们可以揭示和复制细胞器和其它膜结构的内部成分，并在进口金相显微镜下检查。冰冻蚀刻法是通过升华除去冰，暴露原来隐藏的薄膜表面。
冻干简称冻干，在高真空(升华)条件下，可以除去冷冻样品中的水分。这样可以得到干燥稳定的样品，并且可以用电子显微镜进行成像。